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案例頻道作者：楊怡，陳果（杭州士蘭集昕微電子有限公司，浙江 杭州 310000）
摘要：大束流離子注入機是半導體行業中一種十分重要的設備，在生產過程中，影響注入機產品良率和產能的關鍵因素是顆粒的多少。大束流離子注入機采用靶盤式結構，腔體空間大，腔體內真空度相較于中束流離子注入機低，束流路徑大，因此產生顆粒的幾率更大。本文先分析了大束流離子注入機顆粒產生的原因，然后提出了氣體傳導率限制縫和鋸齒石墨兩種減少顆粒的結構設計，并進行了實驗驗證，最后給出了顆粒偏高后查找顆粒源的幾種方法。
關鍵詞：離子注入機；顆粒減少；氣體傳導率限制縫；鋸齒石墨；顆粒源
在線預覽：大束流離子注入機顆粒改善
摘自《自動化博覽》2018年7月刊
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